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生瓷片沖腔機
用途：該設(shè)備用于帶框生瓷片沖腔工藝，具有自動上下料、自動定位，自動沖切等功能，滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12
全自動清洗設(shè)備（新材料）
隨著半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展，砷化鎵、磷化銦等二代半導(dǎo)體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導(dǎo)體材料，對于濕化學(xué)清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨立濕處理工藝槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基礎(chǔ)上，新材料清洗設(shè)備按照客戶工藝菜單進行優(yōu)化設(shè)置，配液精度、配液種類、清洗方式方面進行設(shè)計提升，同時保持與行業(yè)廠商、學(xué)校研究院所的積極聯(lián)合探索和設(shè)備定制。
TIME: 2024-10-11
半自動濕處理設(shè)備
有不同的獨立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設(shè)置，機械手在各工藝槽中進行相應(yīng)的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11
自動供液系統(tǒng)
自動供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺設(shè)備進行供液。具有過濾、循環(huán)功能，根據(jù)用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng)；當(dāng)其中一個桶內(nèi)的液體用完時，能夠自動進行雙桶切換并且提示用戶。同時還具備化學(xué)液的取樣檢測功能。
TIME: 2024-10-11
溫等靜壓機
該設(shè)備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè)，最 大壓力80MPa，最大直徑600，最小230
TIME: 2024-10-11
全自動疊層機
全自動疊層機是用于生瓷片疊片的設(shè)備，具備自動上下料、自動切片、自動撕膜、自動對位、真空疊壓等功能，廣泛應(yīng)用于LTCC、HTCC、MLCC等領(lǐng)域。
TIME: 2024-10-12
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介紹一下全自動硅塊清洗機的用途
2024-09-24全自動硅塊清洗機主要用于硅料的清洗處理，以下是其主要用途和特點：1.全自動硅塊清洗機廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和光伏產(chǎn)業(yè)中對多晶硅和單晶硅塊料進行清洗腐蝕，對提高硅料表面質(zhì)量和生產(chǎn)效率方面發(fā)揮著重要作用，確保后續(xù)硅片的性能和質(zhì)量。
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什么是溫等靜壓機
2024-09-24溫等靜壓機（WIP）是一種用于在高溫和高壓環(huán)境下處理材料的特殊設(shè)備，主要用于固化聚合物、金屬和陶瓷材料，確保材料的密度和結(jié)構(gòu)完整性。 溫等靜壓機在多層陶瓷電容及其它薄膜的壓制中的應(yīng)用，也提高了產(chǎn)品的物理性能和電氣性能。
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