歡迎進(jìn)入思恩半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司 上海思恩裝備科技股份有限公司官網(wǎng)！
在線留言
聯(lián)系我們
- 思恩半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司
- 上海思恩裝備科技股份有限公司
- 電話：13901955336（蔡總）13901868958(孫總）
- 郵箱：dave@ssntech.com
- 地址：蘇州市常熟市通江路305號(hào)B區(qū)6幢
生瓷片沖腔機(jī)
用途：該設(shè)備用于帶框生瓷片沖腔工藝，具有自動(dòng)上下料、自動(dòng)定位，自動(dòng)沖切等功能，滿足LTCC、HTCC中沖切工藝需求。
TIME: 2024-12-12
全自動(dòng)清洗設(shè)備（新材料）
隨著半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展，砷化鎵、磷化銦等二代半導(dǎo)體化合物材料、氮化鎵、碳化硅等三代寬禁帶半導(dǎo)體材料，對(duì)于濕化學(xué)清洗工藝提出了新要求。在配置傳統(tǒng)獨(dú)立濕處理工藝槽（SPM、APM、HPM、DHF、IPA Dry）的基礎(chǔ)上，新材料清洗設(shè)備按照客戶工藝菜單進(jìn)行優(yōu)化設(shè)置，配液精度、配液種類、清洗方式方面進(jìn)行設(shè)計(jì)提升，同時(shí)保持與行業(yè)廠商、學(xué)校研究院所的積極聯(lián)合探索和設(shè)備定制。
TIME: 2024-10-11
半自動(dòng)濕處理設(shè)備
有不同的獨(dú)立濕處理工藝槽、按照客戶工藝菜單的設(shè)置，機(jī)械手在各工藝槽中進(jìn)行相應(yīng)的工藝處理。適合用于基片批量的腐蝕/去膠/顯影/清洗等工藝.
TIME: 2024-10-11
自動(dòng)供液系統(tǒng)
自動(dòng)供液系統(tǒng)可以通過VMB給多臺(tái)設(shè)備進(jìn)行供液。具有過濾、循環(huán)功能，根據(jù)用戶要求配備雙組或者多組過濾、循環(huán)系統(tǒng)；當(dāng)其中一個(gè)桶內(nèi)的液體用完時(shí)，能夠自動(dòng)進(jìn)行雙桶切換并且提示用戶。同時(shí)還具備化學(xué)液的取樣檢測(cè)功能。
TIME: 2024-10-11
溫等靜壓機(jī)
該設(shè)備用于 LTCC、HTCC 和 MLCC 的加壓作業(yè)，最 大壓力80MPa，最大直徑600，最小230
TIME: 2024-10-11
全自動(dòng)疊層機(jī)
全自動(dòng)疊層機(jī)是用于生瓷片疊片的設(shè)備，具備自動(dòng)上下料、自動(dòng)切片、自動(dòng)撕膜、自動(dòng)對(duì)位、真空疊壓等功能，廣泛應(yīng)用于LTCC、HTCC、MLCC等領(lǐng)域。
TIME: 2024-10-12
-
自動(dòng)晶棒清洗機(jī)的特點(diǎn)有哪些
2025-02-19自動(dòng)晶棒清洗機(jī)是半導(dǎo)體、光伏等行業(yè)中用于清洗晶棒的重要設(shè)備，其特點(diǎn)主要包括以下幾個(gè)方面： 1.自動(dòng)化程度高：可實(shí)現(xiàn)晶棒上料、清洗、下料等一系列操作的自動(dòng)化運(yùn)行，無需人工過多干預(yù)。設(shè)備能夠按照預(yù)設(shè)的程序和參數(shù)，正確控制清洗過程中的各個(gè)環(huán)節(jié)，如清洗液的流量、清洗時(shí)間、旋轉(zhuǎn)速度等，大大提高了清洗效率，減少了人工操作帶來的誤差和不確定性。
-
全自動(dòng)疊層機(jī)是什么
2025-02-12全自動(dòng)疊層機(jī)是一種能自動(dòng)完成物料疊放、層壓等操作的自動(dòng)化設(shè)備，可應(yīng)用于多個(gè)領(lǐng)域，以下是具體介紹： 1.功能特點(diǎn) 自動(dòng)化操作：能按照預(yù)設(shè)程序，自動(dòng)完成上料、取料、疊放、層壓等一系列操作，無需人工頻繁干預(yù)，提高了生產(chǎn)效率，降低了人工成本。
-
有機(jī)清洗機(jī)在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用有哪些
2025-02-06有機(jī)清洗機(jī)在半導(dǎo)體領(lǐng)域主要用于去除半導(dǎo)體晶圓、芯片制造過程中的各類有機(jī)污染物等，以下是其具體應(yīng)用： 1.光刻膠去除 在半導(dǎo)體制造的光刻工藝中，光刻膠被廣泛用于定義芯片的電路圖案。光刻完成后，需要使用有機(jī)清洗機(jī)去除未曝光或不需要的光刻膠。有機(jī)清洗機(jī)中的有機(jī)溶劑可以與光刻膠發(fā)生溶解或化學(xué)反應(yīng)，使光刻膠從晶圓表面脫落，然后通過沖洗和干燥等步驟，確保晶圓表面干凈，為后續(xù)工藝做好準(zhǔn)備。例如，使用 N - 甲基吡咯烷酮（NMP）等有機(jī)溶劑的有機(jī)清洗機(jī)，能夠高效地去除各種類型的光刻膠，包括正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。
歡迎進(jìn)入思恩半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司 上海思恩裝備科技股份有限公司
關(guān)注微信
微信號(hào)：WANGYUNHUA
添加微信
聯(lián)系我們
電話咨詢